本公司采用氣相色譜法測定尼莫地平及其片劑含量。

目的測定尼莫地平及其片劑含量。方法采用氣相色譜法測定尼莫地平及其片劑含量。結果試驗日內差平均RSD為0.86%,n=15，日間差平均RSD為1.84%，n=15。線性范圍10~100μg/ml，標準曲線：Y=0.0605ρ 2.03×10-3r=0.9994,檢測限：1μg/ml。平均回收率為98.6%，RSD為1.32%，n=15。結論本法準確、方便、可靠。測定結果滿意，可作為尼莫地平及其片劑含量測定方法。

1儀器與試藥

1.1儀器島津GC9217氣相色譜儀，SE30-填充柱，氫火焰離子化檢測器，N2000數據處理器。

1.2試藥尼莫地平原藥由天方藥業集團提供，多次重結晶后作為對照品，經色譜歸一化分析含量為99%以上；尼莫地平片(10mg/片)購自山東新華制藥廠；水為重蒸餾水。

2實驗方法和結果

2.1色譜條件SE30填充柱，氫火焰離子化檢測器，進樣口溫度250℃，檢測器溫度250℃，柱起始溫度180℃，維持5min后，以10℃/min的速率升至220℃，維持25min；量程102，衰減23，紙速為1mm/min，氣體流速：N250ml/min，H250ml/min，空氣500ml/min，進樣2μl。

2.2實驗標準對照品溶液。取尼莫地平對照品約100mg，精密稱定，置100ml棕色量瓶中，加甲醇溶解，稀釋至刻度，混勻，即得。分別精密量取對照品溶液1.0、2.0、4.0、6.0、8.0、10.0ml，置100ml棕色量瓶中，加甲醇稀釋至刻度，混勻。分別精密量取2μL注入色譜儀，記錄色譜圖，以尼莫地平峰面積(Y)對質量濃度(ρ)進行線性回歸，得線性方程：Y=0.0605ρ 2.03×10-3，r=0.9994。試驗結果表明，尼莫地平在10~100μg/ml范圍內與峰面積有良好的線性關系［2］。試驗還證明，尼莫地平的最低檢測限為1.0μg/ml。

2.3回收率測定精密稱取尼莫地平片細粉適量(約2片量)3份，分置100ml棕色量瓶中，分別精密加入尼莫地平對照品約10、15、20mg，加甲醇溶解，稀釋至刻度，混勻；濾過，精密量取續濾液10.0ml，置100ml棕色量瓶中，加甲醇稀釋至刻度，混勻。照樣品測定項下方法測定，測得平均回收率為98.6%，RSD為1.32%。

2.4精密度試驗精密量取對照品液(60μg/ml)2μl，重復進樣10次，尼莫地平峰面積RSD為1.2%。

2.5日內、日間精密度試驗分別取濃度40、60和80μg/ml標準對照品液2μl，遮光低溫保存，進行日內差和日間差試驗，對應的日內差RDS為0.86%,n=15，日間差RSD為1.84%,n=15。

2.6樣品測定取尼莫地平原料藥約20mg，精密稱定，置100ml棕色量瓶中，加甲醇溶解并稀釋至刻度，混勻；精密量取10ml，置50ml棕色量瓶中，加甲醇稀釋至刻度，混勻。取尼莫地平片10片，精密稱定，計算平均片重，研細，精密稱取細粉適量(約相當于尼莫地平20mg)，置100ml棕色量瓶中，加甲醇溶解并稀釋至刻度，混勻；濾過，精密量取續濾液10ml，置50ml棕色量瓶中，加甲醇稀釋至刻度，混勻。精密量取上述溶液2μl進樣，記錄色譜圖，按外標法以峰面積計算尼莫地平含量。三批原料藥的含量分別為99.1%,99.2%和98.9%,RSD分別為1.25%,1.42%和1.37%。三批片劑的含量分別為標示量的98.2%,97.9%和97.4%,RSD分別為1.47%，1.32%和1.48%。

3討論

在濕度和溫度不變的前提下，經光照后，尼莫地平雜質峰增多，雜質峰面積增大，主成分含量下降。表明隨光照時間增長，尼莫地平的光分解產物隨之增大增多。經加速試驗和長期穩定性試驗，未見尼莫地平的主成分下降或雜質增多的現象。這一結果也表明尼莫地平對光不穩定。但長期室溫放置，不發生分解，可避光長期保存［3］。由于尼莫地平對光極不穩定，因此在整個試驗過程中，應注意避光操作。用本法測定各種條件下穩定性試驗中尼莫地平的含量變化，尼莫地平對光極不穩定，而對濕度、溫度相對穩定。光照后，原料藥含量下降率明顯高于片劑，這是因為片劑內層受光照較少的原因。試驗表明，本法準確、方便、可靠，測定結果滿意，可作為尼莫地平及其片劑含量測定方法。